膜厚儀的原理及選擇

        除了精密的測(cè)量?jī)x器二次元與三坐標(biāo)之外，在測(cè)量薄膜厚度時(shí)，我們還會(huì)經(jīng)常的使用一種儀器，就是膜厚儀。

　    膜厚儀又叫膜厚計(jì)、膜厚測(cè)試儀，可分為磁感應(yīng)鍍層測(cè)厚儀、電渦流鍍層測(cè)厚儀與熒光X射線(xiàn)儀鍍層測(cè)厚儀。 它的主要測(cè)量方法是采用磁感應(yīng)原理時(shí)，利用從測(cè)頭經(jīng)過(guò)非鐵磁覆層而流入鐵磁基體的磁通的大小，來(lái)測(cè)定覆層厚度。也可以測(cè)定與之對(duì)應(yīng)的磁阻的大小，來(lái)表示其覆層厚度。

　    磁性測(cè)厚法的膜厚儀是一種超小型測(cè)量?jī)x，它能快速，無(wú)損傷，地進(jìn)行鐵磁性金屬基體上的噴涂。電鍍層厚度的測(cè)量?？蓮V泛用于制造業(yè)，金屬加工業(yè)，化工業(yè)，商檢等檢測(cè)領(lǐng)域。特別適用于工程現(xiàn)場(chǎng)測(cè)量。

　    二次熒光法的測(cè)厚儀的原理是物質(zhì)經(jīng)X射線(xiàn)或粒子射線(xiàn)照射后，由于吸收多余的能量而變成不穩(wěn)定的狀態(tài)。從不穩(wěn)定狀態(tài)要回到穩(wěn)定狀態(tài)，此物質(zhì)必需將多余的能量釋放出來(lái)，而此時(shí)是以熒光或光的形態(tài)被釋放出來(lái)。熒光X射線(xiàn)鍍層厚度測(cè)量?jī)x或成分分析儀的原理就是測(cè)量這被釋放出來(lái)的熒光的能量及強(qiáng)度，來(lái)進(jìn)行定性和定量分析。

　    膜厚儀的選擇

　    首先取決于你所測(cè)產(chǎn)品的結(jié)構(gòu)。如果只是簡(jiǎn)單的涂層，銅箔使用普通的膜厚儀就可以解決了。如果測(cè)電鍍層的厚度，而且具有幾層鍍層，那么就要使用x-射線(xiàn)膜厚儀。單鍍層厚度大于0.5um的還可以采用金相法觀察。